Hochreine Ozonherstellung für Halbleiter

Die hochreine Ozonherstellung für Halbleiter mit hochleistungsstarken Ozongeneratoren und Ozonmessgeräten in der Waferproduktion. Das in Wasser gelöste Oxidationsmittel zersetzt in hohen Konzentrationen selbst organische und metallische Verunreinigungen. Kontaktieren Sie uns für weitere Informationen!

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Ozon zur Oxidation und Sterilisation in der Waferherstellung (SC)

Die Produktion der hochempfindlichen Siliziumplatten erfordert einen hohen Qualitätsstandard mit hochreinen Fertigungsprozessen.

Zu Qualitätsverbesserung der Leiterplatinen werden die Wafer- Oberflächen gereinigt. Standardmäßig werden an dieser Stelle chemische Lösungen zur Flächenreinigung eingesetzt. Diese Sterilisationsverfahren haben sich jedoch als äußerst umweltschädlich und ineffizient. Stattdessen hat sich die Anwendung von Ozon im Produktionsprozess als optimale Alternative gegenüber den Standardmethoden stark bewährt gemacht. Neben dem geringen Chemikalienverbrauch sowie die damit verbundenen Kosten wird die Prozessleistung gesteigert.

Mit dem Einsatz von Ozon werden insbesondere auftretende Substanzen im Oxidations- und Nassreinigungsprozess restlos gelöst. Organische und metallische Schadstoffe werden mit dem hohen Ozonanteil in der Wasserphase oxidiert. Jegliche Rückstände werden damit auf dem Wafer vermieden. Darüber hinaus wird bereits die Ozontechnik bei anorganischen Stoffen im festen Zustand angewendet. So wird Ozon für die Entfernung von Photoresist-Beschichtungen und die Oxidation von Silikon verwendet. Zum anderen findet die Ozonisierung bei der Aufbereitung von deionisierten Wasser (DI) statt, um das Auftreten von mikrobiologischen Kulturen zu bekämpfen. [1] [2] [3]

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    Warum ANSEROS SC-Produkte and semi-Lösungen

    • Das Original: 40 Jahre Erfahrung in der Ozontechnologie

    • Ozonanlagen aus einer Hand (interne und externe Kommunikation der Geräte kompatibel)

    • Ozonanwendung in DI- und RO-Wasser in hohen Konzentrationen, sowie in sauren und nasschemischen Prozessen

    • Ozonsysteme machen den Einsatz von Chemikalien überflüssig

    • Beratung und Planung durch ANSEROS Engineering Team inklusive

    • Mitgliedschaft in International Ozone Association (IOA), Ozone Quality Committee, FIGAWA und DVGW

    • Akkreditiert durch AiF Industrieforschung

    • Über 1000 Kunden in 40 Ländern mit einer Exportrate von 70 % der Verkaufskonten

    • Globales Vertriebsnetz und weltweites Serviceangebot

    • Made in Germany

    Vorteile von ANSEROS SC-Produkten und Semi-Lösungen

    + Gesamtbetriebskosten (TOC)

    + Ozonerzeugungsanlagen nach DIN 19627

    + Metallfreie Ozonerzeugung durch Quarzglasmodule

    + Blasenfreie Ozonerzeugung durch Plattenentladung

    + Korrosionsfreie Ozongeneratoren und wartungsfreie Ozonmessgeräte

    + Störungsfreier Einsatz bei Tag und Nacht und lange Lebensdauer

    + Hochpräzise und sehr energiesparende NDUV-Messtechnik mit innovativer UVL-Technologie

    + Verwendung von Materialkomponenten aus Edelstahl

    + Verwendung von PFA-Materialkomponenten

    + Einsatz von SIEMENS SPS-Steuerungen mit Touchpanel und unterschiedlicher Sprachauswahl

    + Digitale Ozonanalysatoren und -generatoren mit digitalen Schnittstellen und Anzeigemonitoren

    + Schnell arbeitende Ozonwächter zur sicheren Ozonüberwachung mit Warnmodulen

    + Zertifizierte Qualität mit CE-geprüften Geräten

    + RoHs- und REACH-Bestätigung

    Ozon Anwendungen in der Halbleiterherstellung (SC)

    Die Ozonsysteme von Anseros arbeiten hoch effizient bei niedrigen Kosten und ersparen den Einsatz von Chemikalien

    Ozonanwendungen werden in der Halbleiterindustrie unter anderem für

    Nassreinigung

    TEOS

    CVD

    Chemische Reinigung

    Hydrophobierung

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      DI SYSTEME IM WAFER PROZESS

      Für weitere Informationen kontaktieren Sie uns. Wir freuen uns, Sie persönlich und indiviudell beraten zu dürfen.

      info@anseros.de
      Tel: +49-(0)7071-7995-0

      Ozonerzeugung

      Ozonerzeugungssysteme

      Ozonerzeugungssysteme zur Ozonherstellung in der Halbleiterindustrie

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        Ozongeneratoren für die Halbleiterindustrie

        Empfohlene Ozongeneratoren zur Ozonherstellung in der Halbleiterindustrie

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          Ozonzerstörung

          Ozonanlagen zur Ozonzerstörung in der Halbleiterindustrie

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            Ozonzerstörer für Halbleiterindustrie

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              Ozonmessung

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                Ozongasmessgeräte zur Ozonherstellung in der Halbleiterindustrie

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                  Raumluftüberwachung und -sicherheit

                  Ozonmessgeräte zur Raumluftüberwachung in der Halbleiterindustrie

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                    Ozonperipherie

                    Ozonsystemkomponenten zur Ozonherstellung für die Halbleiterindustrie

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                      Literatur:

                      [1] Gise, P. and Blanchard, R. (1998): Modern Semiconductor Fabrication, Englewood Cliffs, New Jersey
                      [2] Kern, W. (1993): Handbook of Semiconductor Wafer Cleaning Technology, Noyes Publications, New Jersey
                      [3] Gottschalk, G.; Libra, J.; Saupe, A. (2010): Ozonation of Water and Waste Water, Wily-VCH Verlag GmbH&Co.KGaA, Weinheim