{"id":156,"count":30,"description":"Halbleiter- und Solar­industrie\n\nDer Einsatz von Ozon zur Reinigung von Wafern hat sich mittlerweile etabliert. Dabei macht man sich die Tatsache zunutze, dass Ozon organische und metallische Verunreinigungen in der Wasserphase oxidiert. \n\n

Ozon f\u00fcr Halbleiter und Solarzellen.<\/h2>\n

In den letzten Jahren ist das Interesse an leistungsf\u00e4higeren Chips und Solarplatten rasant gestiegen.<\/h6>\n

Bekanntlich werden f\u00fcr die Chipproduktion und Solarplattenherstellung sogenannte Wafer verwendet. Die Herstellung der hochsensiblen Siliziumpl\u00e4ttchen erfordert einen hohen Qualit\u00e4tsstandard mit ultrasauberen Reinigungsprozessen: Die Oberfl\u00e4chen der Siliziumplatten werden gereinigt, um die Qualit\u00e4t der Leiterplatten zu verbessern. Standardm\u00e4\u00dfig werden an dieser Stelle chemische L\u00f6sungen wie etwa S\u00e4uren zur Oberfl\u00e4chenreinigung eingesetzt. Diese Reinigungsmethoden haben sich jedoch als \u00e4u\u00dferst umweltunfreundlich und ineffizient erwiesen.<\/p>\n

Stattdessen hat sich der Einsatz von Ozon im Produktionsprozess als die beste Alternative zu den Standardmethoden erwiesen. Neben dem Verbrauch von Chemikalien und den damit verbundenen Kosten wird auch die Prozessleistung erh\u00f6ht. Bitte kontaktieren Sie uns f\u00fcr weitere Details.<\/p>\n\n\nOzonanwendungen in der Halbleiterindustrie (SC)\n\n

Die Ozonsysteme von Anseros arbeiten hocheffizient und kosteng\u00fcnstig. Das Ozonverfahren macht den Einsatz von Chemikalien \u00fcberfl\u00fcssig. Ozonanwendungen werden unter anderem in der Halbleiterindustrie eingesetzt,<\/p>\n