Halbleiterindustrie

Halbleiterindustrie

In den letzten Jahren ist das Interesse der Halbleiterindustrie an Ozonanwendungen stark gewachsen. Die Verwendung von Ozon zur Reinigung von Wafern hat sich mittlerweile durchgesetzt. Dabei macht man sich zu Nutze, dass Ozon organische und metallische Verunreinigungen in der Wasserphase oxidiert.

Ozonanwendungen kommen in der Halbleiterindustrie unter anderem zum Einsatz bei

+ Nassreinigung
+ TEOS
+ CVD
+ Trockenreinigung
+ Hydrophobics

Anseros Ozonsysteme machen den Einsatz von Chemikalien überflüssig und arbeiten höchst effizient bei geringen Kosten.

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Empfohlene Anseros Anlagen